作者nasa01 (123)
看板NEMS
标题[问题] su8 100 厚度
时间Wed Aug 7 12:09:03 2013
想请问一下
使用su8 光阻 (有用100 50 3050)
实验都照参数走
以SU8-100为例
150 um厚度
500转 30秒
2000转 60秒
软烤 65度 20min
95度 50min
冷却
曝光 500mJ/cm2
曝後考 65度 1min
95度 12min
显影
制作好母模去量都是70um~80um
参数也是上网查的
请问一下哪边环节出了问题? 做了好几十次都会厚度不足
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 203.64.97.123
1F：推 SkyLark2001:既然都上网查了，为什麽不用microChem的官方参数？ 08/07 13:54
2F：→ SkyLark2001:我看你的软烤时间以及spin 60秒就知道这不是官方参数 08/07 13:55
4F：→ SkyLark2001:光阻厚度取决於spin cycle, MicroChem一律都是转30S 08/07 14:00
5F：→ SkyLark2001:所以我会选择用1750rpm转30S，再针对转出来的厚度 08/07 14:01
6F：→ SkyLark2001:增加或减少。至於table1跟fig1显示还不一样，你可以 08/07 14:01
7F：→ SkyLark2001:2000 rpm跟1750 rpm都试试看 08/07 14:01
8F：→ nasa01:参数是这个pdf没错，还是我看错了? 08/07 18:48
9F：→ nasa01:即使是图一，也是100um,可是我的都是70-80um 08/07 18:50
10F：→ nasa01:所以是，300转30秒，1750转30秒?? 08/07 18:59