※ 引述《bb0303 (ZZZ)》之銘言： : 抱歉又上來問問題 : 因為目前只能使用正光阻去做黃光 (不然我也想用負光阻阿...) : 而小弟遇到的問題是 : 上光阻→鍍完金屬→發現有個地方lift off 不掉 : 線寬大約20um : 很明顯是整個被金屬覆蓋住 : 想請問有沒有甚麼辦法可以lift off 掉阿 : 原本小弟是想在上面劃一刀好讓光阻流進去，但這想法實在太天真，因為根本太小... : 我有震洗過...震洗結果是其他地方金屬有蓋率被震洗掉， : 現在很懊惱 請求有經驗的版友可以提供意見讓我試試看 : 感謝大家的回答 如果需要甚麼補充我會再補充 感謝 請問你用的基板是什麼?? 是玻璃還是Si wafer? 我用的是玻璃基板 光阻是az1518 線寬最小是10um 金屬是鍍Cr and Au 我之前也有再版上詢問過相關的lift off問題 很感謝SkyLark2001大大的解惑!! 有幾個問題很關鍵 提出來給你參考 1. 基板在上光阻前是否有清洗乾淨，若是用玻璃基板，一定要用異丙醇洗 2. 玻璃基板的黃光參數跟矽基板不太相同，通常曝光秒數跟顯影秒數會增加一些 關鍵在於光阻顯影時有沒有顯得乾淨 這兩點如果都有達到的話，基本上Lift off用超音波震洗是不會壞的 而且結構lift off出來才會漂亮，如果震洗會壞的話，表示金屬跟基板接合不好 後續的實驗很容易造成脫落。 以上回答希望有幫到你 by lift off試很久的小嫩嫩 --

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