※ 引述《bb0303 (ZZZ)》之铭言： : 抱歉又上来问问题 : 因为目前只能使用正光阻去做黄光 (不然我也想用负光阻阿...) : 而小弟遇到的问题是 : 上光阻→镀完金属→发现有个地方lift off 不掉 : 线宽大约20um : 很明显是整个被金属覆盖住 : 想请问有没有甚麽办法可以lift off 掉阿 : 原本小弟是想在上面划一刀好让光阻流进去，但这想法实在太天真，因为根本太小... : 我有震洗过...震洗结果是其他地方金属有盖率被震洗掉， : 现在很懊恼 请求有经验的版友可以提供意见让我试试看 : 感谢大家的回答 如果需要甚麽补充我会再补充 感谢 请问你用的基板是什麽?? 是玻璃还是Si wafer? 我用的是玻璃基板 光阻是az1518 线宽最小是10um 金属是镀Cr and Au 我之前也有再版上询问过相关的lift off问题 很感谢SkyLark2001大大的解惑!! 有几个问题很关键 提出来给你参考 1. 基板在上光阻前是否有清洗乾净，若是用玻璃基板，一定要用异丙醇洗 2. 玻璃基板的黄光参数跟矽基板不太相同，通常曝光秒数跟显影秒数会增加一些 关键在於光阻显影时有没有显得乾净 这两点如果都有达到的话，基本上Lift off用超音波震洗是不会坏的 而且结构lift off出来才会漂亮，如果震洗会坏的话，表示金属跟基板接合不好 後续的实验很容易造成脱落。 以上回答希望有帮到你 by lift off试很久的小嫩嫩 --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 140.120.106.184 ※ 编辑: liliihana 来自: 140.120.106.184 (04/11 13:41)