作者SkyLark2001 ( )
看板NEMS
標題Re: [問題] 用正光阻LIFT OFF
時間Thu Apr 11 11:14:39 2013
※ 引述《LittleBlue21 (廖小藍)》之銘言:
: 借標題一問
: 小弟最近也在用AZ 4620做Lift off
: 有幾個問題想請教各位前輩
: 1.
: 大家都建議AZ光阻要搭配HMDS使用
: 但我們實驗室並沒有HMDS
: 爬文也沒人提到如果沒用的效果是如何(只看到HMDS可能有致癌風險...)
: 難道真的非用不可嗎?
: 我的基板是Si+SiO2
1. 沒有非用不可,HMDS不是什麼魔法神水,只是增加附著力的
看你線寬,圖案以及你黃光參數夠不夠好。有些人顯影很細很長的線會飄走,
這時候才要用HMDS。不過看你。你若用了HMDS之後顯得比較好何樂不為
: 2.
: 我知道Hot plate與Oven兩種加熱方式不太一樣
: 像SU8 data sheet就有明文建議使用Hot plate
: 而AZ4620就沒有看到有相關說明
: 不曉得對於AZ來說是不是一樣?
: 有沒有人分享經驗呢?
: 謝謝各位
看你4620的厚度。軟烤目的是烤光阻裡的溶劑。hotplate 跟oven的機制不同
hotplate的機制是由內而外,oven的機制是由外而內。
基本上大部分光阻的軟烤都是建議不要使用Oven的
因為一進oven把光阻表面烤乾後內層的溶劑就出不來了
但遇到4620很厚的時候使用hotplate則會發生底層烤乾了可是熱傳導不到表層
所以我這邊業界的工程師在4620超過10um以上的軟烤是用兩段式的先放hotplate再進烤箱
硬烤則比較沒這種限制
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本球隊一切依法行政,謝謝指教。
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◆ From: 76.22.72.248
1F:推 LittleBlue21:謝謝S大~~ 04/11 13:18
2F:推 s75287:魔法神水 XD 喝了可以腦筋變清楚 考試都考一百分嗎?!XD 04/11 16:07