作者SkyLark2001 ( )
看板NEMS
标题Re: [问题] 用正光阻LIFT OFF
时间Thu Apr 11 11:14:39 2013
※ 引述《LittleBlue21 (廖小蓝)》之铭言:
: 借标题一问
: 小弟最近也在用AZ 4620做Lift off
: 有几个问题想请教各位前辈
: 1.
: 大家都建议AZ光阻要搭配HMDS使用
: 但我们实验室并没有HMDS
: 爬文也没人提到如果没用的效果是如何(只看到HMDS可能有致癌风险...)
: 难道真的非用不可吗?
: 我的基板是Si+SiO2
1. 没有非用不可,HMDS不是什麽魔法神水,只是增加附着力的
看你线宽,图案以及你黄光参数够不够好。有些人显影很细很长的线会飘走,
这时候才要用HMDS。不过看你。你若用了HMDS之後显得比较好何乐不为
: 2.
: 我知道Hot plate与Oven两种加热方式不太一样
: 像SU8 data sheet就有明文建议使用Hot plate
: 而AZ4620就没有看到有相关说明
: 不晓得对於AZ来说是不是一样?
: 有没有人分享经验呢?
: 谢谢各位
看你4620的厚度。软烤目的是烤光阻里的溶剂。hotplate 跟oven的机制不同
hotplate的机制是由内而外,oven的机制是由外而内。
基本上大部分光阻的软烤都是建议不要使用Oven的
因为一进oven把光阻表面烤乾後内层的溶剂就出不来了
但遇到4620很厚的时候使用hotplate则会发生底层烤乾了可是热传导不到表层
所以我这边业界的工程师在4620超过10um以上的软烤是用两段式的先放hotplate再进烤箱
硬烤则比较没这种限制
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本球队一切依法行政,谢谢指教。
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 76.22.72.248
1F:推 LittleBlue21:谢谢S大~~ 04/11 13:18
2F:推 s75287:魔法神水 XD 喝了可以脑筋变清楚 考试都考一百分吗?!XD 04/11 16:07