塑膠光罩意思是俗稱的網片，膠片嗎？ 如果是的話 差異 6 microns 最有可能的原因有二 1. 是你的網片正反弄錯了。必須要油墨那一面貼著wafer 2. 曝光時的接觸模式要選最貼的那種，通常是H+V contact(hard + vacuum) 這種接觸模式需要讓試片在曝光軟烤後要1. 烤熟(....) 2.烤後要放涼，甚至大概 半小時左右再去曝光。不然的話H+V模式會讓剛烤完就去曝光的wafer緊緊粘在 光罩上分不開 以上兩點都檢查改進後應該可以改善上下差距6 microns的誤差讓整體輪廓接近垂直。 但只是接近，要做到更好就需要從曝光以及軟烤時間去改善。這就比較耗費功夫了。 忘了補充了還有的三點。那就是硬烤。若你接下來的步驟不需要硬烤那最好。 硬烤會造成resist reflow http://bt-onethousand.photonics.ac.uk/optics.htm 如果接下來的製成要求你的4620必須要硬烤，可以試試低溫(低於80度)，長時間 (十幾個小時)的低溫硬烤 又想到一個第四點，那就是edge bead edge bead. 這點在厚光阻尤其嚴重。你轉完2x 厚度的4620厚注意看wafer周圍一圈， 是不是都有凸起。這種厚光阻堆積在wafer最周圍無法轉開的現象稱作edge bead 嚴重時會在邊緣形成數十microns的凸起，造成曝光時光阻無法跟光罩緊貼。 通常第二點提到的vacuum contact可以克服這這一點。但我沒做過那麼厚的4620， 所以我建議你若wafer周圍那一圈太厚，可以在轉完光阻後，重新用spinner轉一次， 轉的時候用acetone水柱把最邊緣的地方洗掉 ※ 引述《ak43gh7py (憨廷)》之銘言： : 請教一下，我利用塑膠光罩21、23、25、27、29um等，圓心到圓心間距則都是100um : ，光阻為az-4620，厚度約25um，但是經過曝光顯影完後卻都差約5um，然後光阻柱底徑 : 和頂徑再差約6um，曝光時間和溫度都有做過調整，目前參數也是試過後最加的參數 : ，有試過調整曝光時間和溫度，但要不是會烤焦就是顯不乾淨，顯影時搖晃幅度也很小 : 不知道版上是否也有前輩遇過這種事情，我在想是不是間距太大的關係，還是有其它因素 : ，謝謝大家 -- 本球隊一切依法行政，謝謝指教。 --

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