塑胶光罩意思是俗称的网片，胶片吗？ 如果是的话 差异 6 microns 最有可能的原因有二 1. 是你的网片正反弄错了。必须要油墨那一面贴着wafer 2. 曝光时的接触模式要选最贴的那种，通常是H+V contact(hard + vacuum) 这种接触模式需要让试片在曝光软烤後要1. 烤熟(....) 2.烤後要放凉，甚至大概 半小时左右再去曝光。不然的话H+V模式会让刚烤完就去曝光的wafer紧紧粘在 光罩上分不开 以上两点都检查改进後应该可以改善上下差距6 microns的误差让整体轮廓接近垂直。 但只是接近，要做到更好就需要从曝光以及软烤时间去改善。这就比较耗费功夫了。 忘了补充了还有的三点。那就是硬烤。若你接下来的步骤不需要硬烤那最好。 硬烤会造成resist reflow http://bt-onethousand.photonics.ac.uk/optics.htm 如果接下来的制成要求你的4620必须要硬烤，可以试试低温(低於80度)，长时间 (十几个小时)的低温硬烤 又想到一个第四点，那就是edge bead edge bead. 这点在厚光阻尤其严重。你转完2x 厚度的4620厚注意看wafer周围一圈， 是不是都有凸起。这种厚光阻堆积在wafer最周围无法转开的现象称作edge bead 严重时会在边缘形成数十microns的凸起，造成曝光时光阻无法跟光罩紧贴。 通常第二点提到的vacuum contact可以克服这这一点。但我没做过那麽厚的4620， 所以我建议你若wafer周围那一圈太厚，可以在转完光阻後，重新用spinner转一次， 转的时候用acetone水柱把最边缘的地方洗掉 ※ 引述《ak43gh7py (憨廷)》之铭言： : 请教一下，我利用塑胶光罩21、23、25、27、29um等，圆心到圆心间距则都是100um : ，光阻为az-4620，厚度约25um，但是经过曝光显影完後却都差约5um，然後光阻柱底径 : 和顶径再差约6um，曝光时间和温度都有做过调整，目前参数也是试过後最加的参数 : ，有试过调整曝光时间和温度，但要不是会烤焦就是显不乾净，显影时摇晃幅度也很小 : 不知道版上是否也有前辈遇过这种事情，我在想是不是间距太大的关系，还是有其它因素 : ，谢谢大家 -- 本球队一切依法行政，谢谢指教。 --

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