作者ak43gh7py (憨廷)
看板NEMS
標題[問題] 光阻曝光後光阻形狀
時間Thu Feb 21 01:31:08 2013
請教一下，我利用塑膠光罩21、23、25、27、29um等，圓心到圓心間距則都是100um
，光阻為az-4620，厚度約25um，但是經過曝光顯影完後卻都差約5um，然後光阻柱底徑
和頂徑再差約6um，曝光時間和溫度都有做過調整，目前參數也是試過後最加的參數
，有試過調整曝光時間和溫度，但要不是會烤焦就是顯不乾淨，顯影時搖晃幅度也很小
不知道版上是否也有前輩遇過這種事情，我在想是不是間距太大的關係，還是有其它因素
，謝謝大家
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◆ From: 1.165.6.19
1F：→ tcc529:基本上塑膠光罩的解析度原本就不比鉻膜光罩來的好，因此會 02/21 10:21
2F：→ tcc529:出現曝光後尺寸與設計不符的狀況也是合理，再說你的深寬比 02/21 10:22
3F：→ tcc529:接近1：1，在曝光跟顯影時也不容易做到非常完美，建議如果 02/21 10:23
4F：→ tcc529:製程容許的話減低光阻厚度試試看，就之前做的經驗看，會誤 02/21 10:24
5F：→ tcc529:差2~5um都算可容忍的範圍，不過我們是做50um以上的線寬，因 02/21 10:25
6F：→ tcc529:此對這種誤差就覺得無所謂囉~~ 02/21 10:25
7F：→ ak43gh7py:您是底徑差2~5um，還是頂徑?謝謝 02/22 00:55