作者ak43gh7py (憨廷)
看板NEMS
标题[问题] 光阻曝光後光阻形状
时间Thu Feb 21 01:31:08 2013
请教一下，我利用塑胶光罩21、23、25、27、29um等，圆心到圆心间距则都是100um
，光阻为az-4620，厚度约25um，但是经过曝光显影完後却都差约5um，然後光阻柱底径
和顶径再差约6um，曝光时间和温度都有做过调整，目前参数也是试过後最加的参数
，有试过调整曝光时间和温度，但要不是会烤焦就是显不乾净，显影时摇晃幅度也很小
不知道版上是否也有前辈遇过这种事情，我在想是不是间距太大的关系，还是有其它因素
，谢谢大家
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◆ From: 1.165.6.19
1F：→ tcc529:基本上塑胶光罩的解析度原本就不比铬膜光罩来的好，因此会 02/21 10:21
2F：→ tcc529:出现曝光後尺寸与设计不符的状况也是合理，再说你的深宽比 02/21 10:22
3F：→ tcc529:接近1：1，在曝光跟显影时也不容易做到非常完美，建议如果 02/21 10:23
4F：→ tcc529:制程容许的话减低光阻厚度试试看，就之前做的经验看，会误 02/21 10:24
5F：→ tcc529:差2~5um都算可容忍的范围，不过我们是做50um以上的线宽，因 02/21 10:25
6F：→ tcc529:此对这种误差就觉得无所谓罗~~ 02/21 10:25
7F：→ ak43gh7py:您是底径差2~5um，还是顶径?谢谢 02/22 00:55