作者czchen (我心因何惱春風)
看板NEMS
標題[問題] PDMS孔膜製作問題
時間Tue Dec 4 01:23:28 2012
研究需要用到上面有許多微米孔洞的PDMS薄膜，但是似乎不太好做。
參考了一些PAPER，有的是用RIE的方式 CF4或SF6 300W ~ 500W 暴力轟穿，
有的則是用SU8柱子翻模之後，再把上面殘留的一層PDMS用RIE轟掉...
不知道有沒有人做過類似的東西? 有經驗能分享嗎? 0.0
--
用翻模的好像都會殘留一層屋頂，用RIE又都貴到飛天.... Orz
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.114.108.222
1F：推 s75287:壓重一點... 12/04 05:33
2F：推 lockq:可以參考我學長的文章 the network formation assay: a 12/04 15:30
3F：→ lockq:spatially standardized neurite outgrowth analytical 12/04 15:31
4F：→ lockq:display for neurotoxicity screening" Jean-Philippe的文章 12/04 15:33
5F：→ lockq:大概~40nm厚 孔洞可以自行定義型狀 12/04 15:35
6F：→ czchen:嗯,我們是想在厚10~30um的PDMS上作出大量的5um直徑穿孔 @@ 12/04 16:24
※ 編輯: czchen 來自: 140.114.108.222 (12/04 16:26)
7F：推 s75287:我們實驗室在MEMS2013年有一個6um厚度30um PDMS的paper 12/05 01:14
8F：推 s75287:不過6um的洞不是那篇的最主要重點.... 12/05 01:14
9F：→ czchen:請問樓上，我能去哪邊找到這篇文章或先前的研究參考嗎?QQ 12/05 05:11