作者czchen (我心因何恼春风)
看板NEMS
标题[问题] PDMS孔膜制作问题
时间Tue Dec 4 01:23:28 2012
研究需要用到上面有许多微米孔洞的PDMS薄膜，但是似乎不太好做。
参考了一些PAPER，有的是用RIE的方式 CF4或SF6 300W ~ 500W 暴力轰穿，
有的则是用SU8柱子翻模之後，再把上面残留的一层PDMS用RIE轰掉...
不知道有没有人做过类似的东西? 有经验能分享吗? 0.0
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用翻模的好像都会残留一层屋顶，用RIE又都贵到飞天.... Orz
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.114.108.222
1F：推 s75287:压重一点... 12/04 05:33
2F：推 lockq:可以参考我学长的文章 the network formation assay: a 12/04 15:30
3F：→ lockq:spatially standardized neurite outgrowth analytical 12/04 15:31
4F：→ lockq:display for neurotoxicity screening" Jean-Philippe的文章 12/04 15:33
5F：→ lockq:大概~40nm厚 孔洞可以自行定义型状 12/04 15:35
6F：→ czchen:嗯,我们是想在厚10~30um的PDMS上作出大量的5um直径穿孔 @@ 12/04 16:24
※ 编辑: czchen 来自: 140.114.108.222 (12/04 16:26)
7F：推 s75287:我们实验室在MEMS2013年有一个6um厚度30um PDMS的paper 12/05 01:14
8F：推 s75287:不过6um的洞不是那篇的最主要重点.... 12/05 01:14
9F：→ czchen:请问楼上，我能去哪边找到这篇文章或先前的研究参考吗?QQ 12/05 05:11