※ 引述《black7928 (胖)》之銘言： : 小弟最近正在是1um的曝光 : 可是結果不盡理想 : 小弟的參數如下 : 機台的曝光強度12mW/cm2 : 使用NR71-1500PY的光阻 : 基板為鈮酸鋰基板 : 1.清洗後烘烤90度10min : 2.塗佈 500rpm 10s 4000rpm 40s : 3.軟烤 90度 10min : 4.曝光16s : 5.顯影液與水比例3:1 顯影時間12s : 有一部份因為所設計的較為密集 : 試了很多種參數都無法完成 用om看都是黏在一塊的 : 想問看看有沒有什麼方式能夠改善 再麻煩了 謝謝!! 如果是柵狀結構的話有可能是太長了，LiNbO3附著性蠻差的，如果光阻本身aspect ratio 太高的話要讓他穩穩待在上面(又很長的話)還真的不太容易。 我曾用過一種類似LiNbO3的基版，在上面做一條寬5um，長10mm的線，也是試了好幾種 方法才成功，包含表面改質和降低光阻高度等等，原po都可以試試看。 還有是否曾注意過pattern是在顯影劑中就黏住了，還是拿出來在乾的過程中才黏住，我 曾做過一種aspect ratio很大的結構，彼此間又離很近，在從液體中取出時往往會因表 面張力讓彼此黏住 (可能是表面張力>附著力)。 --

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