※ 引述《black7928 (胖)》之铭言： : 小弟最近正在是1um的曝光 : 可是结果不尽理想 : 小弟的参数如下 : 机台的曝光强度12mW/cm2 : 使用NR71-1500PY的光阻 : 基板为铌酸锂基板 : 1.清洗後烘烤90度10min : 2.涂布 500rpm 10s 4000rpm 40s : 3.软烤 90度 10min : 4.曝光16s : 5.显影液与水比例3:1 显影时间12s : 有一部份因为所设计的较为密集 : 试了很多种参数都无法完成 用om看都是黏在一块的 : 想问看看有没有什麽方式能够改善 再麻烦了 谢谢!! 如果是栅状结构的话有可能是太长了，LiNbO3附着性蛮差的，如果光阻本身aspect ratio 太高的话要让他稳稳待在上面(又很长的话)还真的不太容易。 我曾用过一种类似LiNbO3的基版，在上面做一条宽5um，长10mm的线，也是试了好几种 方法才成功，包含表面改质和降低光阻高度等等，原po都可以试试看。 还有是否曾注意过pattern是在显影剂中就黏住了，还是拿出来在乾的过程中才黏住，我 曾做过一种aspect ratio很大的结构，彼此间又离很近，在从液体中取出时往往会因表 面张力让彼此黏住 (可能是表面张力>附着力)。 --

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