作者jen0410 (~任~)
看板NEMS
標題[問題] PMMA光阻後接lift-off
時間Wed Aug 1 01:49:40 2012
版上的先進大家好，
小弟最近在實驗上遇到了一些問題想來請教版上的意見。
目前製程是這樣 coating PMMA(250nm) -> E-beam lithography -> E-gun蒸鍍40nm ->
-> lift-off
遇到的問題是lift-off不起來，PMMA應該是一進ACE就溶的差不多了，不過金屬膜不會
隨著PMMA的溶解而浮起，產生類似stiction的現象，黏在表面了，最近嘗試發現ACE ->
-> IPA -> 慢慢加水在試片表面形成液珠 ，這時候金屬膜就會因為水的表面張力被拉
起來了，不過遇到兩個問題，1. 沒辦法完全lift-off，2.lift-off後的形狀不漂亮，
老闆說有奈米的東西不准我們用超音波震= = 希望有人能解惑，謝謝。
另外一問，老闆一直說台灣的E-gun蒸鍍太慢(我度率大概在1.5A/s)，他說在美國隨便做
都3A/s以上，想請問有誰聽過哪邊有鍍率很高的E-gun蒸鍍(非Al) Orz...
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◆ From: 118.169.72.117
1F：推 nevinyrrals:你的線寬大概多少? 08/01 15:48
2F：→ jen0410:目前在測試 10nm 20nm .... 150nm 08/01 18:07
3F：→ nevinyrrals:我覺得你還是可以私下嘗試看看用震洗的行不行 08/01 18:19
4F：→ nevinyrrals:如果不行就算了 可以的話圖形應該會比目前的清楚 08/01 18:20
5F：→ nevinyrrals:蒸鍍時電流再加高應該可以過3A/s 不過你的膜也不厚 08/01 18:24
6F：→ nevinyrrals:好像也沒有必要就是了 08/01 18:25
7F：推 oax:有check過pmma厚度嗎?會不會比預期薄? 08/07 21:41
8F：推 Jeffch:金屬應該可以蠻快的...但要看真空度能不能維持... 08/10 07:18
9F：→ shtsao:個人碩論做法是拿針筒裝ACE並在ACE溶液中朝SAMPLE區做沖洗 11/15 23:36
10F：→ shtsao:至於e-gun 可以考慮中研院物理所NanoCore組的設備 網路找找 11/15 23:45