作者sai77715 (賴打)
看板NEMS
標題AZ 4620 曝光處起泡
時間Mon May 21 22:16:50 2012
以下是我的機台與參數
曝光機MJB4,曝光量10mw/cm^2 汞燈160W 波長365nm
az4620 拿出冰箱約1小時
因厚度關係 spin 500轉10s 1000轉40s
軟烤95度 6min
曝光時間20s 中間休息5s 然後再20s
一曝光完有照到光處的樣子會變的不一樣
會起泡和有點撥離基板 顯影也會出現問題
想請問各位 可能的原因是什麼??
非常非常感謝您的回答
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◆ From: 140.112.17.180
※ 編輯: sai77715 來自: 140.112.17.180 (05/21 22:19)
1F：推 quaintness:過曝 沒HMDS .... 05/21 23:51
2F：推 blueseas:請問基板是...? 05/22 23:31
3F：→ sai77715:SiO2 05/24 16:37
4F：推 achieveman:水分未完全去除,曝光區邊緣因高溫起水泡... 05/30 23:55
5F：→ sai77715:應該是樓上講得這樣 感謝~ 06/11 10:47