作者sai77715 (赖打)
看板NEMS
标题AZ 4620 曝光处起泡
时间Mon May 21 22:16:50 2012
以下是我的机台与参数
曝光机MJB4,曝光量10mw/cm^2 汞灯160W 波长365nm
az4620 拿出冰箱约1小时
因厚度关系 spin 500转10s 1000转40s
软烤95度 6min
曝光时间20s 中间休息5s 然後再20s
一曝光完有照到光处的样子会变的不一样
会起泡和有点拨离基板 显影也会出现问题
想请问各位 可能的原因是什麽??
非常非常感谢您的回答
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.112.17.180
※ 编辑: sai77715 来自: 140.112.17.180 (05/21 22:19)
1F：推 quaintness:过曝 没HMDS .... 05/21 23:51
2F：推 blueseas:请问基板是...? 05/22 23:31
3F：→ sai77715:SiO2 05/24 16:37
4F：推 achieveman:水分未完全去除,曝光区边缘因高温起水泡... 05/30 23:55
5F：→ sai77715:应该是楼上讲得这样 感谢~ 06/11 10:47