※ 引述《liweits (LAZZYER)》之銘言： : 因為製程需要，需要用到負光阻作為擋層， : 所以之後要去掉(容易去掉的，不是作模的)，請問有沒有什麼適合的負光阻， : 我有查到可以使用AZ5214作反轉烤， : 但是因為時間緊迫，問了景明，沒想到要十週才能來(吐血) : 想請問有沒有哪家實驗室有AZ 5214，可以跟你們買， : 或是有什麼適合的負光阻可以推薦一下， : 因為實驗室沒幾人有相關經驗，沒人可以問，拜託大家了 在台灣的學界一般都用正光阻做 lift-off，只要做得出來就好，負光阻較不普遍。 我在國外是使用 Futurrex這家公司的負光阻，台灣現在有代理，這邊就不打廣告了 http://futurrex.com/en/products/negative-photoresists.html 網頁上有列出這家公司的負光阻有以下三類型，蝕刻用的，厚光阻，以及lift-off三種 我用過的是Lift-off專用的 NR71-1000PY以及 NR9-3000PY 黃光步驟簡單，NR71-1000PY就跟一般的薄光阻如S1813差不多厚度1um， 顯影起來小線寬很漂亮，只比多一個曝後烤的步驟而已。lift-off結果也很不賴。 光阻本身有專用的remover叫做RR4，但是用acetone在常溫即可去除。不管是蒸鍍還是 濺鍍都一樣。 不過因為是lift-off專用的光阻，所以本身相對於Si/nitride/oxide對RIE的選擇比 有點低，我放進RIE中蝕刻0.5 um的 oxide而已，1um的光阻本身會被吃得很厲害。 不過我相信若選擇蝕刻型的型號光阻會好一些。 會拿負光阻去RIE當mask是因為光罩不小心做反了，所以把光阻也反過來就解決這個問題 -- 本球隊一切依法行政，謝謝指教。 --

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