※ 引述《liweits (LAZZYER)》之铭言： : 因为制程需要，需要用到负光阻作为挡层， : 所以之後要去掉(容易去掉的，不是作模的)，请问有没有什麽适合的负光阻， : 我有查到可以使用AZ5214作反转烤， : 但是因为时间紧迫，问了景明，没想到要十周才能来(吐血) : 想请问有没有哪家实验室有AZ 5214，可以跟你们买， : 或是有什麽适合的负光阻可以推荐一下， : 因为实验室没几人有相关经验，没人可以问，拜托大家了 在台湾的学界一般都用正光阻做 lift-off，只要做得出来就好，负光阻较不普遍。 我在国外是使用 Futurrex这家公司的负光阻，台湾现在有代理，这边就不打广告了 http://futurrex.com/en/products/negative-photoresists.html 网页上有列出这家公司的负光阻有以下三类型，蚀刻用的，厚光阻，以及lift-off三种 我用过的是Lift-off专用的 NR71-1000PY以及 NR9-3000PY 黄光步骤简单，NR71-1000PY就跟一般的薄光阻如S1813差不多厚度1um， 显影起来小线宽很漂亮，只比多一个曝後烤的步骤而已。lift-off结果也很不赖。 光阻本身有专用的remover叫做RR4，但是用acetone在常温即可去除。不管是蒸镀还是 溅镀都一样。 不过因为是lift-off专用的光阻，所以本身相对於Si/nitride/oxide对RIE的选择比 有点低，我放进RIE中蚀刻0.5 um的 oxide而已，1um的光阻本身会被吃得很厉害。 不过我相信若选择蚀刻型的型号光阻会好一些。 会拿负光阻去RIE当mask是因为光罩不小心做反了，所以把光阻也反过来就解决这个问题 -- 本球队一切依法行政，谢谢指教。 --

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