作者endlessbbs ()
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標題[問題] AZ-4620顯影時間
時間Wed Nov 16 00:59:19 2011
各位大大好~我是剛開始學習製程的新手
這兩天在製作AZ-4620 8um的製程
轉速為2000rpms40秒、軟烤時間為100度10分鐘、曝光時間約為20秒
顯影液為AZ-400K(AZ-400K:DI=1:4)
顯影約3分鐘左右用OM觀察依然看到不少光阻殘留
由於已經顯影了3分鐘怕再下去會開始過顯
請問依照各位大大的經驗會繼續顯影下去嗎?
或是縮短軟烤時間?(之前軟烤時間為5分鐘時會產生過曝現象)
或者是調整顯影液比例為1:3較好?
(因之前有學長使用1:4顯影效果不佳後來改用1:3才成功)
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◆ From: 114.46.115.172
※ 編輯: endlessbbs 來自: 114.46.115.172 (11/16 01:07)
※ 編輯: endlessbbs 來自: 114.46.115.172 (11/16 01:12)
1F：推 Colula:轉速太低，PR太厚且均勻性不佳，建議調高至8000rpm 11/16 01:56
2F：推 s75287:用RIE 或是氧電漿打一下...1:3比較好.... 11/16 07:38
3F：推 s75287:一樓的 8000轉厚度就跑掉了 這樣要上幾層...? 11/16 07:39
4F：推 astushi:我之前是1:2,建議顯影不要死計時間,以肉眼看到狀況為主 11/16 09:25
5F：推 s75287:AZ很怪 就是會留一層在底下 如果泡久一點殘留的PR不見了... 11/16 11:47
6F：推 s75287:我的pattern也不見了...泡少一點 就是會殘留... 11/16 11:48
7F：→ endlessbbs:淚推版主，我就是碰到這種窘境，後來又用1:4去繼續顯 11/17 19:09
8F：→ endlessbbs:總共6分鐘左右勉強乾淨，但有些地方開始過顯了....冏 11/17 19:10
9F：→ endlessbbs:a大我就是用肉眼為主，不過顯的有點久所以會怕= = 11/17 20:15
10F：推 Ice98:軟烤和曝光的時間都再拉長一點 11/17 23:11
11F：→ Ice98:軟烤久一點顯影時間會拉長, 但是比較不容易過顯 11/17 23:12
12F：推 astushi:看起來PR似乎有問題，你的轉速要先低再高..2000rpm有點厚 11/19 04:50
13F：→ astushi:要不要先1500rpm~再加到3000停20秒，我記得可以計算厚度 11/19 04:51
14F：→ astushi:你只用一種轉速，PR均勻性會很差 11/19 04:51
15F：→ endlessbbs:a大說的對! 我的結構有時候刮出來會有1um左右的落差 11/19 09:19
16F：→ endlessbbs:感謝你熱心的建議，我會試試看! 11/19 09:19
17F：→ jam46:推O2 plasma... 12/05 12:38