作者endlessbbs ()
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标题[问题] AZ-4620显影时间
时间Wed Nov 16 00:59:19 2011
各位大大好~我是刚开始学习制程的新手
这两天在制作AZ-4620 8um的制程
转速为2000rpms40秒、软烤时间为100度10分钟、曝光时间约为20秒
显影液为AZ-400K(AZ-400K:DI=1:4)
显影约3分钟左右用OM观察依然看到不少光阻残留
由於已经显影了3分钟怕再下去会开始过显
请问依照各位大大的经验会继续显影下去吗?
或是缩短软烤时间?(之前软烤时间为5分钟时会产生过曝现象)
或者是调整显影液比例为1:3较好?
(因之前有学长使用1:4显影效果不佳後来改用1:3才成功)
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◆ From: 114.46.115.172
※ 编辑: endlessbbs 来自: 114.46.115.172 (11/16 01:07)
※ 编辑: endlessbbs 来自: 114.46.115.172 (11/16 01:12)
1F：推 Colula:转速太低，PR太厚且均匀性不佳，建议调高至8000rpm 11/16 01:56
2F：推 s75287:用RIE 或是氧电浆打一下...1:3比较好.... 11/16 07:38
3F：推 s75287:一楼的 8000转厚度就跑掉了 这样要上几层...? 11/16 07:39
4F：推 astushi:我之前是1:2,建议显影不要死计时间,以肉眼看到状况为主 11/16 09:25
5F：推 s75287:AZ很怪 就是会留一层在底下 如果泡久一点残留的PR不见了... 11/16 11:47
6F：推 s75287:我的pattern也不见了...泡少一点 就是会残留... 11/16 11:48
7F：→ endlessbbs:泪推版主，我就是碰到这种窘境，後来又用1:4去继续显 11/17 19:09
8F：→ endlessbbs:总共6分钟左右勉强乾净，但有些地方开始过显了....冏 11/17 19:10
9F：→ endlessbbs:a大我就是用肉眼为主，不过显的有点久所以会怕= = 11/17 20:15
10F：推 Ice98:软烤和曝光的时间都再拉长一点 11/17 23:11
11F：→ Ice98:软烤久一点显影时间会拉长, 但是比较不容易过显 11/17 23:12
12F：推 astushi:看起来PR似乎有问题，你的转速要先低再高..2000rpm有点厚 11/19 04:50
13F：→ astushi:要不要先1500rpm~再加到3000停20秒，我记得可以计算厚度 11/19 04:51
14F：→ astushi:你只用一种转速，PR均匀性会很差 11/19 04:51
15F：→ endlessbbs:a大说的对! 我的结构有时候刮出来会有1um左右的落差 11/19 09:19
16F：→ endlessbbs:感谢你热心的建议，我会试试看! 11/19 09:19
17F：→ jam46:推O2 plasma... 12/05 12:38