作者tmac0119 ()
看板NEMS
標題[問題] 利用Lift-off法 蒸鍍金屬後線寬改變
時間Fri Nov 4 14:37:30 2011
小弟使用lift-off法
pattern顯影之後 有利用OM檢查過線寬沒問題
但是利用E-GUN蒸鍍Pt之後
在進行lift-off卻發現pattern線寬改變了
目前想不到是何種原因
請問前輩，可能是甚麼原因造成的
光阻厚度約為1 micrometer
pt厚度為30 nm
pattern最小線寬為1 micrometer
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.113.157.195
1F：推 rainstonein:正負光阻?~拍cross section的sem看看是不是梯形? 11/04 19:28
2F：推 astushi:你的aligner是甚麼型式?接觸式的嘛??還有一個是ebeam的溫 11/04 21:49
3F：→ astushi:度，所以軟烤硬烤時候溫度就要抓準 11/04 21:49
4F：→ tmac0119:是使用I-line stepper所以不是接觸式的 11/04 22:15
5F：→ tmac0119:ebeam的溫度 我鍍到腔體溫度70度就會停下來降溫 請問這 11/04 22:16
6F：→ tmac0119:溫度會太高嗎? 11/04 22:16
7F：推 SkyLark2001:拿進超音波振個三分鐘吧 11/05 00:30
8F：→ tmac0119:用超音波震過20分鐘了 還是一樣 11/05 01:04
9F：推 nevinyrrals:感覺應該是曝光顯影的問題 11/05 01:49
10F：→ nevinyrrals:顯影處可能並未完全形成階梯狀 11/05 01:53
11F：推 SkyLark2001:用的是何種光阻?誤差是到多少? 這些都是蠻重要的資訊 11/05 08:32