作者tmac0119 ()
看板NEMS
标题[问题] 利用Lift-off法 蒸镀金属後线宽改变
时间Fri Nov 4 14:37:30 2011
小弟使用lift-off法
pattern显影之後 有利用OM检查过线宽没问题
但是利用E-GUN蒸镀Pt之後
在进行lift-off却发现pattern线宽改变了
目前想不到是何种原因
请问前辈，可能是甚麽原因造成的
光阻厚度约为1 micrometer
pt厚度为30 nm
pattern最小线宽为1 micrometer
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.113.157.195
1F：推 rainstonein:正负光阻?~拍cross section的sem看看是不是梯形? 11/04 19:28
2F：推 astushi:你的aligner是甚麽型式?接触式的嘛??还有一个是ebeam的温 11/04 21:49
3F：→ astushi:度，所以软烤硬烤时候温度就要抓准 11/04 21:49
4F：→ tmac0119:是使用I-line stepper所以不是接触式的 11/04 22:15
5F：→ tmac0119:ebeam的温度 我镀到腔体温度70度就会停下来降温 请问这 11/04 22:16
6F：→ tmac0119:温度会太高吗? 11/04 22:16
7F：推 SkyLark2001:拿进超音波振个三分钟吧 11/05 00:30
8F：→ tmac0119:用超音波震过20分钟了 还是一样 11/05 01:04
9F：推 nevinyrrals:感觉应该是曝光显影的问题 11/05 01:49
10F：→ nevinyrrals:显影处可能并未完全形成阶梯状 11/05 01:53
11F：推 SkyLark2001:用的是何种光阻?误差是到多少? 这些都是蛮重要的资讯 11/05 08:32