作者allenwey (催眠...我很帥的！)
看板NEMS
標題Re: [問題] 有關負型光阻KMPR曝光一事
時間Fri Oct 14 18:34:20 2011
※ 引述《allenwey (催眠...我很帥的！)》之銘言：
: 標題: [問題] 有關負型光阻KMPR曝光一事
: 時間: Tue Oct 11 00:06:35 2011
:
: 不知道這裡的各位，有人使用過KMPR這支光阻嗎？
: 因為目前實驗碰到了怪事 = =
:
: KMPR厚度約30um左右，曝光尺寸最小為13um的洞，
: 泂跟洞之間最小間距約50um！
:
: 製程條件如下：
: 軟烤…85C 5min+110C 5min
: 曝光…650mJ/contact mode
: 曝後烤…110C 5min
: 顯影…4min SU-8 develop
:
: --
:
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: ◆ From: 61.216.231.235
: 推 spp100:光阻沒塗平唷~~ 10/11 10:15
: → spp100:基板磨的不夠平 or 光阻稀釋混合不均勻 10/11 10:16
: → spp100:軟烤完 不定點螺旋測厚尺規量一下厚度 看差多少 10/11 10:19
: → allenwey:請問，光阻沒塗平？怎麼說啊？ 10/11 13:40
: → allenwey:光阻塗完後，有用a-step量測厚度 10/11 13:45
: → allenwey:最大?最小約在5~10um之間 10/11 13:46
: → allenwey:以厚膜光阻塗佈來說，落差這樣算可嗎？ 10/11 13:48
: 推 quaintness:30um差5~10um 還蠻糟的...曝光怎麼會均勻?! 10/11 18:51
不好意思...
想請問一般厚膜光阻，有關spin coater的參數要怎麼設定？
才能得到較均勻的厚度？
我的設定是：
第一段轉速 800rpm, 1000rpm/s, 30sec
第二段轉速 0rpm, 0rpm/s, 5-10sec
第三段轉速 1300rpm, 1000rpm/s, 30sec
第二段主要用意是要讓光阻有時間流動，才做高速旋轉！
不過光阻倒完後，旋完後，光阻倒下去的那團印子，還是很明顯..
烘烤完印子還是略見...導致厚度均勻性變差@@
該如何設定轉速，厚度均勻性比較好？
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◆ From: 101.8.23.196
1F：推 quaintness:本錢粗的話...倒愈多旋愈好...三段太少 可以再多一點 10/14 20:43
2F：→ quaintness:轉速上去再下來... 10/14 20:44
3F：推 quaintness:100um都不會差到10um ○rz...30um差10um = = 10/14 20:46
4F：推 spp100:請問 spinner 是台製的那一台嗎@@a 可以是是不同機台 10/14 20:48
5F：→ allenwey:差10um也不是每一次啦... 10/15 11:42
6F：→ allenwey:那不知道quaintness大有什麼厚膜設定參數可供參考？ 10/15 11:45
7F：推 quaintness:分多段一點 第二段 0rpm, 0rpm/s拿掉就好了 再看一下 10/15 13:11
8F：→ quaintness:datasheet 要30um不難吧... 10/15 13:12
9F：→ quaintness:KMPR哪一支 該不會自己都不知道吧 ○rz 10/15 13:12
10F：推 quaintness:稀釋後真的不知道了 ...就花時間試囉 10/15 13:14