作者allenwey (催眠...我很帅的！)
看板NEMS
标题Re: [问题] 有关负型光阻KMPR曝光一事
时间Fri Oct 14 18:34:20 2011
※ 引述《allenwey (催眠...我很帅的！)》之铭言：
: 标题: [问题] 有关负型光阻KMPR曝光一事
: 时间: Tue Oct 11 00:06:35 2011
:
: 不知道这里的各位，有人使用过KMPR这支光阻吗？
: 因为目前实验碰到了怪事 = =
:
: KMPR厚度约30um左右，曝光尺寸最小为13um的洞，
: 泂跟洞之间最小间距约50um！
:
: 制程条件如下：
: 软烤…85C 5min+110C 5min
: 曝光…650mJ/contact mode
: 曝後烤…110C 5min
: 显影…4min SU-8 develop
:
: --
:
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
: ◆ From: 61.216.231.235
: 推 spp100:光阻没涂平唷~~ 10/11 10:15
: → spp100:基板磨的不够平 or 光阻稀释混合不均匀 10/11 10:16
: → spp100:软烤完 不定点螺旋测厚尺规量一下厚度 看差多少 10/11 10:19
: → allenwey:请问，光阻没涂平？怎麽说啊？ 10/11 13:40
: → allenwey:光阻涂完後，有用a-step量测厚度 10/11 13:45
: → allenwey:最大?最小约在5~10um之间 10/11 13:46
: → allenwey:以厚膜光阻涂布来说，落差这样算可吗？ 10/11 13:48
: 推 quaintness:30um差5~10um 还蛮糟的...曝光怎麽会均匀?! 10/11 18:51
不好意思...
想请问一般厚膜光阻，有关spin coater的参数要怎麽设定？
才能得到较均匀的厚度？
我的设定是：
第一段转速 800rpm, 1000rpm/s, 30sec
第二段转速 0rpm, 0rpm/s, 5-10sec
第三段转速 1300rpm, 1000rpm/s, 30sec
第二段主要用意是要让光阻有时间流动，才做高速旋转！
不过光阻倒完後，旋完後，光阻倒下去的那团印子，还是很明显..
烘烤完印子还是略见...导致厚度均匀性变差@@
该如何设定转速，厚度均匀性比较好？
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◆ From: 101.8.23.196
1F：推 quaintness:本钱粗的话...倒愈多旋愈好...三段太少 可以再多一点 10/14 20:43
2F：→ quaintness:转速上去再下来... 10/14 20:44
3F：推 quaintness:100um都不会差到10um ○rz...30um差10um = = 10/14 20:46
4F：推 spp100:请问 spinner 是台制的那一台吗@@a 可以是是不同机台 10/14 20:48
5F：→ allenwey:差10um也不是每一次啦... 10/15 11:42
6F：→ allenwey:那不知道quaintness大有什麽厚膜设定参数可供参考？ 10/15 11:45
7F：推 quaintness:分多段一点 第二段 0rpm, 0rpm/s拿掉就好了 再看一下 10/15 13:11
8F：→ quaintness:datasheet 要30um不难吧... 10/15 13:12
9F：→ quaintness:KMPR哪一支 该不会自己都不知道吧 ○rz 10/15 13:12
10F：推 quaintness:稀释後真的不知道了 ...就花时间试罗 10/15 13:14