作者SkyLark2001 ( )
看板NEMS
標題Re: [問題] JSR 151N曝光顯影後圖形表面變得粗糙
時間Fri Sep 16 07:36:43 2011
※ 引述《jeffdon2 (kkk)》之銘言：
: 最近在嘗試使用JSR 151N來定義流道圖形並且加熱接合的動作，可是曝光顯影後
: 卻發現光阻的表面變成霧面，更詭異的是霧面的圖形是只有在被乳膠光罩覆蓋的區域
: 出現，其他沒被光罩覆蓋但是有曝光的區域都沒有這情形，不知道有用過JSR 151N
: 的人是否有相同的情形?
查了一下這是三星的負光阻
所以發生這種情況很正常
曝到光的區域進行 crosslink所以會留下，沒曝到光的區域會被顯影液wash away
現在的問題是沒曝光的地方沒被顯影液移除，只有約略被侵蝕出現霧面，所以可能是
1. 顯影液太稀或藥效不夠
2. 顯影時間不夠
3. soft back or PEB溫度太高或時間太長
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 128.95.165.23
※ 編輯: SkyLark2001 來自: 128.95.165.23 (09/16 07:37)
1F：推 jeffdon2:SkyLark2001大可能弄錯我的意思了 09/16 09:31
2F：→ jeffdon2:被乳膠光罩覆蓋的區域是指被覆蓋但是有透光的區域 09/16 09:32
3F：→ jeffdon2:和沒被光罩覆蓋曝光的區域相比之下是霧面的情況 09/16 09:33
4F：→ SkyLark2001:我大致懂你的意思，但我的疑問是，你的光罩比wafer還 09/16 16:18
5F：→ SkyLark2001:小?不然怎麼會有所謂"沒被覆蓋但有曝光"的區域 09/16 16:19
6F：推 jeffdon2:沒錯，就是光罩比wafer小 09/16 17:30
7F：→ jeffdon2:結果發現光罩可透光區域下的光阻顯影後表面霧化 09/16 17:31
8F：→ jeffdon2:但是其他沒被光罩蓋到而同樣有曝光的光阻卻是亮面的狀態 09/16 17:32
9F：推 quaintness:4.乳膠光罩 光罩可透光區域用OM看應該會有小顆粒? 09/17 02:40
10F：推 jeffdon2:這樣是表示乳膠光罩的品質不良，還是無法避免? 09/17 10:11
11F：→ jeffdon2:重新做光罩有用嗎? 09/17 10:11
12F：→ jeffdon2:因為要做熱接合的動作最好一開始兩面可以越平貼越好 09/17 10:13
13F：→ jeffdon2:表面太粗糙會導致接合效果不良或加熱時間較長導致流道 09/17 10:15
14F：→ jeffdon2:變形 09/17 10:15