作者SkyLark2001 ( )
看板NEMS
标题Re: [问题] JSR 151N曝光显影後图形表面变得粗糙
时间Fri Sep 16 07:36:43 2011
※ 引述《jeffdon2 (kkk)》之铭言：
: 最近在尝试使用JSR 151N来定义流道图形并且加热接合的动作，可是曝光显影後
: 却发现光阻的表面变成雾面，更诡异的是雾面的图形是只有在被乳胶光罩覆盖的区域
: 出现，其他没被光罩覆盖但是有曝光的区域都没有这情形，不知道有用过JSR 151N
: 的人是否有相同的情形?
查了一下这是三星的负光阻
所以发生这种情况很正常
曝到光的区域进行 crosslink所以会留下，没曝到光的区域会被显影液wash away
现在的问题是没曝光的地方没被显影液移除，只有约略被侵蚀出现雾面，所以可能是
1. 显影液太稀或药效不够
2. 显影时间不够
3. soft back or PEB温度太高或时间太长
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 128.95.165.23
※ 编辑: SkyLark2001 来自: 128.95.165.23 (09/16 07:37)
1F：推 jeffdon2:SkyLark2001大可能弄错我的意思了 09/16 09:31
2F：→ jeffdon2:被乳胶光罩覆盖的区域是指被覆盖但是有透光的区域 09/16 09:32
3F：→ jeffdon2:和没被光罩覆盖曝光的区域相比之下是雾面的情况 09/16 09:33
4F：→ SkyLark2001:我大致懂你的意思，但我的疑问是，你的光罩比wafer还 09/16 16:18
5F：→ SkyLark2001:小?不然怎麽会有所谓"没被覆盖但有曝光"的区域 09/16 16:19
6F：推 jeffdon2:没错，就是光罩比wafer小 09/16 17:30
7F：→ jeffdon2:结果发现光罩可透光区域下的光阻显影後表面雾化 09/16 17:31
8F：→ jeffdon2:但是其他没被光罩盖到而同样有曝光的光阻却是亮面的状态 09/16 17:32
9F：推 quaintness:4.乳胶光罩 光罩可透光区域用OM看应该会有小颗粒? 09/17 02:40
10F：推 jeffdon2:这样是表示乳胶光罩的品质不良，还是无法避免? 09/17 10:11
11F：→ jeffdon2:重新做光罩有用吗? 09/17 10:11
12F：→ jeffdon2:因为要做热接合的动作最好一开始两面可以越平贴越好 09/17 10:13
13F：→ jeffdon2:表面太粗糙会导致接合效果不良或加热时间较长导致流道 09/17 10:15
14F：→ jeffdon2:变形 09/17 10:15