作者areckin (女王萬歲)
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標題[問題]HMDS使用問題
時間Sat May 7 00:50:47 2011
我有以下關於使用HMDS的問題:
1.若在手套箱裡使用spin coater塗佈HMDS在Si wafer上
有無毒性安全上的問題?
2.可否提供適當的轉速、時間、烤乾的溫度時間嗎?
3.在後續製程會用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否會連同光阻清除掉?
謝謝!
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 218.174.111.101
1F：推 spp100:HMDS 要在適當的腔體操作 粗真空>蒸鍍>抽氣>purge N2 05/07 01:35
2F：→ spp100: > 抽真空 > vent > 取試片 05/07 01:36
3F：→ spp100:不過研究生 不適用勞安法規 教授會說那一點點沒關西XD 05/07 01:38
4F：→ spp100:我以前都是巴拉巴拉的做 現在也沒事(迷之聲:快去我敢生等) 05/07 01:39
5F：→ spp100: 更正 : 趕 05/07 01:40
6F：推 quaintness:高致癌物質 但是大家都沒在怕的 都用spin coater ○rz 05/07 01:55
7F：推 spp100:教授 : 黃光是大門在此 給我進去 C (菸) 05/07 06:50
8F：→ areckin:所以我才會考慮在手套箱操作,因為我使用Chlorobenzene也是 05/07 13:45
9F：→ areckin:也是在手套箱中的spin coater操作,氣體不會洩漏出來 05/07 13:46