作者areckin (女王万岁)
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标题[问题]HMDS使用问题
时间Sat May 7 00:50:47 2011
我有以下关於使用HMDS的问题:
1.若在手套箱里使用spin coater涂布HMDS在Si wafer上
有无毒性安全上的问题?
2.可否提供适当的转速、时间、烤乾的温度时间吗?
3.在後续制程会用O2 RIE去除光阻，那光阻底下的HMDS是否会连同光阻清除掉?
谢谢!
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 218.174.111.101
1F：推 spp100:HMDS 要在适当的腔体操作 粗真空>蒸镀>抽气>purge N2 05/07 01:35
2F：→ spp100: > 抽真空 > vent > 取试片 05/07 01:36
3F：→ spp100:不过研究生 不适用劳安法规 教授会说那一点点没关西XD 05/07 01:38
4F：→ spp100:我以前都是巴拉巴拉的做 现在也没事(迷之声:快去我敢生等) 05/07 01:39
5F：→ spp100: 更正 : 赶 05/07 01:40
6F：推 quaintness:高致癌物质 但是大家都没在怕的 都用spin coater ○rz 05/07 01:55
7F：推 spp100:教授 : 黄光是大门在此 给我进去 C (菸) 05/07 06:50
8F：→ areckin:所以我才会考虑在手套箱操作,因为我使用Chlorobenzene也是 05/07 13:45
9F：→ areckin:也是在手套箱中的spin coater操作,气体不会泄漏出来 05/07 13:46