※ 引述《SkyLark2001 ( )》之銘言： : 我沒用過你的光阻，也沒鍍過100A那麼薄的 金 : 你的substrate是什麼? SS和silicon oxide : 你的feature size多小? 直徑5μm的圓孔陣列 : 你的bake是用hotplate還是oven? 使用烤箱烘烤 : 你用hotplate的話上面有沒有鋪鋁箔? : 你hard bake若是用oven的話烤完後有沒有 O2 plasma RIE descum一下? 這我沒做，因為我是仿照學長傳下來的流程 : 這些都會影響黃光結果 : 基本上過期兩年就我經驗而言...無關痛癢 恩恩，謝謝，我知道了 : 黃光完之後有用高倍顯微鏡確定顯影結果是否完美嗎？ 是的，有用高倍顯微鏡check過，顯影結果跟預期一樣 : 只是要dehydration的話，45分鐘太久了 : : 軟烤90度 30min : : 硬烤120度 30min : : 接觸式曝光機 70v 300w : : uv照射時間4.8s : 就曝光而言　你給這樣的數字是沒意義的，要給該機器的ＵＶ在某固定波長(如365nm) : 下的intensity : : 顯影時間 25s : : 鍍上10nm的金 : 令我最訝異的是你的金下面沒有一層Cr... 這我真的不懂為什的還要鍍層鉻?? 我鍍金是為了要當成長矽奈米線的觸媒 : 你鍍完100A的金之後可以肉眼分辨金的顏色有跟光阻的顏色不同嗎？ 是的，可以分辨 : 放進Acetone之後震個一陣子gold layer還能survive嗎？ 之前實驗室利用sputter鍍金時，發現到有金殘留的問題 改用e-beam鍍金後就沒問題了 : 講了一堆雜七雜八，基本上你可以去google : 我google到一個南台論文也用EPG512做liftoff的 恩，這篇我也有搜尋到，所以後來有再進去黃光做了調整 : 硬烤時間只有 100C 2min. : 我想這就是差別 謝謝大大幫忙 --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.128.194.201