※ 引述《SkyLark2001 ( )》之铭言： : 我没用过你的光阻，也没镀过100A那麽薄的 金 : 你的substrate是什麽? SS和silicon oxide : 你的feature size多小? 直径5μm的圆孔阵列 : 你的bake是用hotplate还是oven? 使用烤箱烘烤 : 你用hotplate的话上面有没有铺铝箔? : 你hard bake若是用oven的话烤完後有没有 O2 plasma RIE descum一下? 这我没做，因为我是仿照学长传下来的流程 : 这些都会影响黄光结果 : 基本上过期两年就我经验而言...无关痛痒 恩恩，谢谢，我知道了 : 黄光完之後有用高倍显微镜确定显影结果是否完美吗？ 是的，有用高倍显微镜check过，显影结果跟预期一样 : 只是要dehydration的话，45分钟太久了 : : 软烤90度 30min : : 硬烤120度 30min : : 接触式曝光机 70v 300w : : uv照射时间4.8s : 就曝光而言　你给这样的数字是没意义的，要给该机器的ＵＶ在某固定波长(如365nm) : 下的intensity : : 显影时间 25s : : 镀上10nm的金 : 令我最讶异的是你的金下面没有一层Cr... 这我真的不懂为什的还要镀层铬?? 我镀金是为了要当成长矽奈米线的触媒 : 你镀完100A的金之後可以肉眼分辨金的颜色有跟光阻的颜色不同吗？ 是的，可以分辨 : 放进Acetone之後震个一阵子gold layer还能survive吗？ 之前实验室利用sputter镀金时，发现到有金残留的问题 改用e-beam镀金後就没问题了 : 讲了一堆杂七杂八，基本上你可以去google : 我google到一个南台论文也用EPG512做liftoff的 恩，这篇我也有搜寻到，所以後来有再进去黄光做了调整 : 硬烤时间只有 100C 2min. : 我想这就是差别 谢谢大大帮忙 --

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