作者Jeffch (Jeff)
看板NEMS
標題Re: [問題] 利用PDMS翻模
時間Fri Mar 18 18:52:40 2011
※ 引述《secret320 (誠..)》之銘言：
: 想請問一下使用PDMS翻模(150nm寬100nm深光柵)翻印不成功
: 使用喬越的PDMS及矽油
: 製程是先在培養皿調配A劑:B劑:矽油=10:1:1(稀釋PDMS)
: 並攪拌,將培養皿放入真空球中,利用機械pump抽至2*10-4torr
: 持續5mins(確認無氣泡),破真空將PDMS後倒入母模
: 再利用真空球抽真空約10mins(確認無氣泡)拿去hotplate上加熱
: 80度1hr,翻印多次都沒成功,有試過在母模上利用UV-OZONE
: 使之親水,發現無法拔模,不知道大家是怎麼翻印200nm以下的結構呢
: 謝謝回答的人
如果可以做silanization讓表面成為hydrophobic將會很有幫助，hydrophobic可使：
1. 母模不沾黏，容易脫模。
2. 更重要的是可讓PDMS更容易浸潤整個結構。
我曾經做過直徑150nm深1.5um的母模，在silanization後甚至不需另加壓力或抽真空，
皆可順利成型與脫模(成柱狀)。
還有要注意使用fluorosilane based chemical時要注意：
1. 先使用O2 plasma做表面處理使Si表面形成covalent bonding
2. 保持chamber的乾燥，以免水氣和silane反應
通silane的方式有很多種，我所使用的是揮發：
(TRIDECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDROOCTYL)TRICHLOROSILANE
祝實驗順利 :)
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◆ From: 68.232.118.110
1F：推 lockq:推推推推 非常實用!!!! 03/18 23:22
2F：推 Heva:可以請問一下您是跟哪家廠商買嗎？現在都買不到現貨 03/18 23:27
3F：推 s75287:sigma吧...實驗室有很多這類surface treatment... 03/19 01:46
4F：推 blueseas:推這篇~~ 03/21 14:15
5F：推 areckin:請問打plasma是處理母膜還是處理欲轉印的基板? 03/21 20:07
6F：→ Jeffch:plasma treatment是處理silicon母模 03/22 16:16
7F：推 s75287:Plasma 使Si 和誰形成 covalent bonding? 03/22 22:54
8F：推 areckin:那UV-ozne處理母膜可以嗎? 03/23 01:14
9F：推 areckin:假若plasma也處理轉印的基板這樣有利於PDMS吸附在基板保持 03/23 01:22
10F：→ areckin:膜的均勻性這樣可以讓脫膜效果提高嗎? 03/23 01:25
11F：→ areckin:回S大,我猜應該是讓Si和O形成更多的Si-OH基 03/23 01:27