作者Jeffch (Jeff)
看板NEMS
标题Re: [问题] 利用PDMS翻模
时间Fri Mar 18 18:52:40 2011
※ 引述《secret320 (诚..)》之铭言：
: 想请问一下使用PDMS翻模(150nm宽100nm深光栅)翻印不成功
: 使用乔越的PDMS及矽油
: 制程是先在培养皿调配A剂:B剂:矽油=10:1:1(稀释PDMS)
: 并搅拌,将培养皿放入真空球中,利用机械pump抽至2*10-4torr
: 持续5mins(确认无气泡),破真空将PDMS後倒入母模
: 再利用真空球抽真空约10mins(确认无气泡)拿去hotplate上加热
: 80度1hr,翻印多次都没成功,有试过在母模上利用UV-OZONE
: 使之亲水,发现无法拔模,不知道大家是怎麽翻印200nm以下的结构呢
: 谢谢回答的人
如果可以做silanization让表面成为hydrophobic将会很有帮助，hydrophobic可使：
1. 母模不沾黏，容易脱模。
2. 更重要的是可让PDMS更容易浸润整个结构。
我曾经做过直径150nm深1.5um的母模，在silanization後甚至不需另加压力或抽真空，
皆可顺利成型与脱模(成柱状)。
还有要注意使用fluorosilane based chemical时要注意：
1. 先使用O2 plasma做表面处理使Si表面形成covalent bonding
2. 保持chamber的乾燥，以免水气和silane反应
通silane的方式有很多种，我所使用的是挥发：
(TRIDECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDROOCTYL)TRICHLOROSILANE
祝实验顺利 :)
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◆ From: 68.232.118.110
1F：推 lockq:推推推推 非常实用!!!! 03/18 23:22
2F：推 Heva:可以请问一下您是跟哪家厂商买吗？现在都买不到现货 03/18 23:27
3F：推 s75287:sigma吧...实验室有很多这类surface treatment... 03/19 01:46
4F：推 blueseas:推这篇~~ 03/21 14:15
5F：推 areckin:请问打plasma是处理母膜还是处理欲转印的基板? 03/21 20:07
6F：→ Jeffch:plasma treatment是处理silicon母模 03/22 16:16
7F：推 s75287:Plasma 使Si 和谁形成 covalent bonding? 03/22 22:54
8F：推 areckin:那UV-ozne处理母膜可以吗? 03/23 01:14
9F：推 areckin:假若plasma也处理转印的基板这样有利於PDMS吸附在基板保持 03/23 01:22
10F：→ areckin:膜的均匀性这样可以让脱膜效果提高吗? 03/23 01:25
11F：→ areckin:回S大,我猜应该是让Si和O形成更多的Si-OH基 03/23 01:27