作者wang0719 (麥子)
看板NEMS
標題[問題] 熱膨脹係數
時間Thu Jul 1 16:23:42 2010
我遇到一個問題
我要sputtering 兩層薄膜
但在退火的完以後膜裂掉了
結構是lsmo/pt/TiN/Ti/SiO2/Si
退火速率每分鐘20度
lsmo的熱膨脹約12
pt約9
這樣子為什麼退火完以後薄膜還會裂掉呢??
謝謝
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 210.240.249.242
1F：→ leox243:Ti/SiO2這層你沒算嗎? 07/01 20:40
2F：→ wang0719:回樓上...Ti/SiO2這邊我會注意~~謝謝 07/01 21:52
3F：推 jovibon:用thermal oxide鐵定不會裂 07/11 23:19
4F：→ leox243:thermal的話我長過1um上面蓋Ti和其他疊層 07/12 15:18
5F：→ leox243:退火到1050度，破得乾乾淨淨，露出乾淨的substrate 07/12 15:19