作者dobb (我應該是快撐夠了吧)
看板NEMS
標題Re: [問題] 請問超厚SU-8 2075 曝光及PEB建議參數 …
時間Wed Sep 9 21:52:15 2009
※ 引述《dobb (我應該是快撐夠了吧)》之銘言：
: 哈囉
: 根據Microchem給我的資料
: coating 四次可以到700 um
: 我現在急需曝光時間的建議
: 在我們的機台
: 130 um 100 sec
: 300 um 145 sec
: 700 um 我不知道多少 但我要賭300 sec
: 不知各位高手有建議嗎?
: PEB我是打算 1 hour at 100度Ｃ
: 還是要照data sheet 65度Ｃ and 95度Ｃ 這樣烤？
: 感謝
昨天試了 成果非常不錯
在wafer上split結果
325 sec 看起來很不錯
PEB at 100 C for 60 min also works well
最難的地方是spin的時候, 因為coating 4次所以每次都要很小心維持uniformity
不知能否有其他SU-8高手可以分享經驗, thanks
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 71.195.76.73
1F：推 Ice98:spin四次之後, 厚度真的可以線性增加嗎? 09/09 23:56
2F：推 lockq:連續spin四次 還是轉一次烤一次再轉一次 這樣疊上去呢? 09/10 00:05
3F：推 wanttu:我猜是連續spin 09/10 01:12
4F：→ dobb:轉一次烤一次, follow a data shttet from Microchem 09/10 02:40
5F：→ dobb:前三次條件一樣 第四次轉很快 增加uniformity 09/10 02:41
6F：推 newbrain:光阻類轉一次烤一次是OK的，我用ARC試過 但只有局部平坦 09/10 14:49
7F：推 oax:你這種旋完烤後在旋的方式，均勻性肯定是個問題 09/12 01:09