作者dobb (我应该是快撑够了吧)
看板NEMS
标题Re: [问题] 请问超厚SU-8 2075 曝光及PEB建议参数 …
时间Wed Sep 9 21:52:15 2009
※ 引述《dobb (我应该是快撑够了吧)》之铭言：
: 哈罗
: 根据Microchem给我的资料
: coating 四次可以到700 um
: 我现在急需曝光时间的建议
: 在我们的机台
: 130 um 100 sec
: 300 um 145 sec
: 700 um 我不知道多少 但我要赌300 sec
: 不知各位高手有建议吗?
: PEB我是打算 1 hour at 100度Ｃ
: 还是要照data sheet 65度Ｃ and 95度Ｃ 这样烤？
: 感谢
昨天试了 成果非常不错
在wafer上split结果
325 sec 看起来很不错
PEB at 100 C for 60 min also works well
最难的地方是spin的时候, 因为coating 4次所以每次都要很小心维持uniformity
不知能否有其他SU-8高手可以分享经验, thanks
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 71.195.76.73
1F：推 Ice98:spin四次之後, 厚度真的可以线性增加吗? 09/09 23:56
2F：推 lockq:连续spin四次 还是转一次烤一次再转一次 这样叠上去呢? 09/10 00:05
3F：推 wanttu:我猜是连续spin 09/10 01:12
4F：→ dobb:转一次烤一次, follow a data shttet from Microchem 09/10 02:40
5F：→ dobb:前三次条件一样 第四次转很快 增加uniformity 09/10 02:41
6F：推 newbrain:光阻类转一次烤一次是OK的，我用ARC试过 但只有局部平坦 09/10 14:49
7F：推 oax:你这种旋完烤後在旋的方式，均匀性肯定是个问题 09/12 01:09