※ 引述《cp2jp6 (大頭)》之銘言： : 2.塑膠光照 : 這的確是個很嚴重的問題 : 我們之前做過玻璃光照 : 是送去交大請人代工... : 不過一來一回時間會拖到 : 因此在送光罩的同時會先以手邊能輕易取得到的東西開始實驗 : 關於塑膠光罩與wafer貼合這一點 : 我們實驗室是選擇在塑膠光罩上壓一片載玻片... : 我也看過其他研究是朋友是直接用膠帶把wafer黏在塑膠光罩上的 : 不知道各位是否有更好的方法呢?? 塑膠光罩的品質也有相當大的差異 像我們這邊有在用一張A4 1500元的底片 也有一張A4 300元的底片 其間的差異 一放在曝光機上就很明顯看得出來 以線寬30um以上的圖案來說 好的膠片光罩 做出來的效果其實跟玻璃光罩不相上下 : 3.曝後烤烘箱 : 耶... : 我們沒這東西噎... : 之前在南台科技大學也有聽學長他們su8製程是使用烘箱 : 如果效果這麼大的話我就找我們老師敗一下了 : 不過還是想現場請教，以烘箱烘烤的效果真的比加熱平板好嗎？ : 結果明顯嗎？ 我們是用海金龍牌的SU-8 XD 在datasheet裡面有提到建議用Hot-plate 可能是底部受熱比較均勻吧 : 4.HMDS : 其實為什麼要用這個致癌物質來當SU8黏著層我依然無解 : 因為之前看板上好像都推薦OMNICOAT，HMDS好像沒有效果 : 不過接下來我會開始選擇不用HMDS來嘗試 : 另外版大於上篇提到的HMDS會影響到製程 : 請問會影響到哪部分呢 : 因為之前我一直把他做為SU8與玻璃的黏著層 : 不知道是否可以在WAFER上使用 使用HMDS 反而會讓完成後的SU-8結構容易脫落 我一直以為 把SU-8做在玻璃上是相當困難的事耶 : 最後可能是我自己異想天開的問題 : 光阻經過旋轉塗佈.軟烤後其實仔細觀察整個光阻表面並不是水平的 : 仍然有些許的凹凸 如果只是單純的厚度不均勻(例如wafer外圍比較厚) 可以在spin完之後先靜置幾個小時 如以一來甚至連wafer夾的痕跡都會消失 如果是不規則的坑洞的話 可能就是光阻裡面氣泡太多了 可以嘗試spin完丟進真空皿抽一下 (我沒試過) 或是乾脆裝一瓶新的光阻來使用 : 今天假設光罩乃玻璃光罩置放於其上 : 但仍會產生部分地方凹陷不與光罩接觸 : 扣除儀器的缺陷，假設光源為垂直光源～～ : 那是否在接觸到不平的SU8表面時垂直光源就不再是垂直光源了? : 這是我的想法~是否有可能呢? : (因為我們整個製程的尺寸凹槽真的有點小，也因此之前忽略的製程細節或小影響在 : 這邊都浮現了) : 感謝板上的各位幫我解答問題 : 其實我也是在經過多次試驗之後 : 腦代開始浮現”無解”這兩個字 : 接下來可能會朝向曝光能量降低開始著手 : 希望能有好的結果 : ＴＨＸ！ 祝順利畢業!~~ --

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