※ 引述《cp2jp6 (大头)》之铭言： : 2.塑胶光照 : 这的确是个很严重的问题 : 我们之前做过玻璃光照 : 是送去交大请人代工... : 不过一来一回时间会拖到 : 因此在送光罩的同时会先以手边能轻易取得到的东西开始实验 : 关於塑胶光罩与wafer贴合这一点 : 我们实验室是选择在塑胶光罩上压一片载玻片... : 我也看过其他研究是朋友是直接用胶带把wafer黏在塑胶光罩上的 : 不知道各位是否有更好的方法呢?? 塑胶光罩的品质也有相当大的差异 像我们这边有在用一张A4 1500元的底片 也有一张A4 300元的底片 其间的差异 一放在曝光机上就很明显看得出来 以线宽30um以上的图案来说 好的胶片光罩 做出来的效果其实跟玻璃光罩不相上下 : 3.曝後烤烘箱 : 耶... : 我们没这东西噎... : 之前在南台科技大学也有听学长他们su8制程是使用烘箱 : 如果效果这麽大的话我就找我们老师败一下了 : 不过还是想现场请教，以烘箱烘烤的效果真的比加热平板好吗？ : 结果明显吗？ 我们是用海金龙牌的SU-8 XD 在datasheet里面有提到建议用Hot-plate 可能是底部受热比较均匀吧 : 4.HMDS : 其实为什麽要用这个致癌物质来当SU8黏着层我依然无解 : 因为之前看板上好像都推荐OMNICOAT，HMDS好像没有效果 : 不过接下来我会开始选择不用HMDS来尝试 : 另外版大於上篇提到的HMDS会影响到制程 : 请问会影响到哪部分呢 : 因为之前我一直把他做为SU8与玻璃的黏着层 : 不知道是否可以在WAFER上使用 使用HMDS 反而会让完成後的SU-8结构容易脱落 我一直以为 把SU-8做在玻璃上是相当困难的事耶 : 最後可能是我自己异想天开的问题 : 光阻经过旋转涂布.软烤後其实仔细观察整个光阻表面并不是水平的 : 仍然有些许的凹凸 如果只是单纯的厚度不均匀(例如wafer外围比较厚) 可以在spin完之後先静置几个小时 如以一来甚至连wafer夹的痕迹都会消失 如果是不规则的坑洞的话 可能就是光阻里面气泡太多了 可以尝试spin完丢进真空皿抽一下 (我没试过) 或是乾脆装一瓶新的光阻来使用 : 今天假设光罩乃玻璃光罩置放於其上 : 但仍会产生部分地方凹陷不与光罩接触 : 扣除仪器的缺陷，假设光源为垂直光源～～ : 那是否在接触到不平的SU8表面时垂直光源就不再是垂直光源了? : 这是我的想法~是否有可能呢? : (因为我们整个制程的尺寸凹槽真的有点小，也因此之前忽略的制程细节或小影响在 : 这边都浮现了) : 感谢板上的各位帮我解答问题 : 其实我也是在经过多次试验之後 : 脑代开始浮现”无解”这两个字 : 接下来可能会朝向曝光能量降低开始着手 : 希望能有好的结果 : ＴＨＸ！ 祝顺利毕业!~~ --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 140.112.14.54 ※ 编辑: Ice98 来自: 140.112.14.54 (06/12 20:32)