作者ken9110 (小蝙蝠)
看板NEMS
標題[問題] RIE後去除光阻
時間Thu Apr 23 19:23:28 2009
先進們好
我想請問一下
我的晶片PAD部分用薄光組AZ1500 遮蔽後
經過RIE etching
發現光阻已經變質(好像塑膠)
透過丙酮已經不能去除
之前試過 塗抹硫酸(因為本身有懸臂樑 已做過超臨界 如果再泡液體 會出現黏滯現象)
原先有想過用泡的
不過好像都沒用
請先進們有更好的方法
替我解決嗎
在不影響懸浮結構下???
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.124.33.113
1F：推 lockq:你們打多久阿 通常應該不至於去不掉光阻咧 04/23 19:44
2F：推 Jinuse:有用過PR stripper嗎 ALEG系列的可以試看看呀 挺乾淨的 04/23 20:13
3F：→ Jinuse:唯一限制就是要加熱到八十度 然後會冒煙很臭 要在抽氣櫃作 04/23 20:14
4F：推 Timsteven:那就再RIE打個O2 plasma啊~ 有機全吃光光 04/23 20:40
5F：推 Ice98:硫酸 => 水 => 丙酮 => 甲醇 => 異丙醇 04/23 22:02
6F：推 Ice98:=> 擔心的話再做一次超臨界乾燥 04/23 22:02
7F：推 Ice98:全程沒有離開液體太久, 應該就不會有黏滯的問題 04/23 22:04
8F：→ panzerfausty:NMP, IPA 08/08 16:56