作者ken9110 (小蝙蝠)
看板NEMS
标题[问题] RIE後去除光阻
时间Thu Apr 23 19:23:28 2009
先进们好
我想请问一下
我的晶片PAD部分用薄光组AZ1500 遮蔽後
经过RIE etching
发现光阻已经变质(好像塑胶)
透过丙酮已经不能去除
之前试过 涂抹硫酸(因为本身有悬臂梁 已做过超临界 如果再泡液体 会出现黏滞现象)
原先有想过用泡的
不过好像都没用
请先进们有更好的方法
替我解决吗
在不影响悬浮结构下???
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.124.33.113
1F：推 lockq:你们打多久阿 通常应该不至於去不掉光阻咧 04/23 19:44
2F：推 Jinuse:有用过PR stripper吗 ALEG系列的可以试看看呀 挺乾净的 04/23 20:13
3F：→ Jinuse:唯一限制就是要加热到八十度 然後会冒烟很臭 要在抽气柜作 04/23 20:14
4F：推 Timsteven:那就再RIE打个O2 plasma啊~ 有机全吃光光 04/23 20:40
5F：推 Ice98:硫酸 => 水 => 丙酮 => 甲醇 => 异丙醇 04/23 22:02
6F：推 Ice98:=> 担心的话再做一次超临界乾燥 04/23 22:02
7F：推 Ice98:全程没有离开液体太久, 应该就不会有黏滞的问题 04/23 22:04
8F：→ panzerfausty:NMP, IPA 08/08 16:56