作者lexjiang (Lex)
看板NEMS
標題Re: [問題] 微機電製程之可調式光柵
時間Tue Apr 14 19:39:54 2009
※ 引述《Ice98 (又寂寞又美好)》之銘言：
: ※ 引述《lexjiang (Lex)》之銘言：
: : 如題
: : 不知道有沒有人可以提供一些相關資料呢
: : 比如說製程、材料等等
: : 我在國家儀器中心有看到這個研發成果
: : http://www.itrc.org.tw/Research/Product/Nano/grating.php
: 看圖片應該是SOI wafer配合簡單的ICP製程做出來的,
: 節距和深度的規格是一般常見的範圍,
: 就製程上來說應該不難做,
: 設計上應該會比較花費心力,
: 驅動電流有點高,
: 可能是用thermal actuator 來帶動grating的位移,
: 但是就節距的變化量來說, 感覺用comb-drive就可以做到,
: 裡面已經有給關鍵字啦, 所以paper應該不難找才對.
: PS. 如果有錯誤的地方, 各位高手可別客氣ㄚ
我找到論文了
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http://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?tp=&arnumber=1540095&isnumber=32892
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