作者lexjiang (Lex)
看板NEMS
标题Re: [问题] 微机电制程之可调式光栅
时间Tue Apr 14 19:39:54 2009
※ 引述《Ice98 (又寂寞又美好)》之铭言：
: ※ 引述《lexjiang (Lex)》之铭言：
: : 如题
: : 不知道有没有人可以提供一些相关资料呢
: : 比如说制程、材料等等
: : 我在国家仪器中心有看到这个研发成果
: : http://www.itrc.org.tw/Research/Product/Nano/grating.php
: 看图片应该是SOI wafer配合简单的ICP制程做出来的,
: 节距和深度的规格是一般常见的范围,
: 就制程上来说应该不难做,
: 设计上应该会比较花费心力,
: 驱动电流有点高,
: 可能是用thermal actuator 来带动grating的位移,
: 但是就节距的变化量来说, 感觉用comb-drive就可以做到,
: 里面已经有给关键字啦, 所以paper应该不难找才对.
: PS. 如果有错误的地方, 各位高手可别客气ㄚ
我找到论文了
分享给大家
http://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?tp=&arnumber=1540095&isnumber=32892
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