作者tjime831 (James_IN (準))
看板NEMS
標題[問題] 有任何機台 RIE or ICP 可進含AU的金屬,並可以etch 二氧化矽
時間Mon Oct 6 11:25:30 2008
急問..............
請問各位大大,
版上有人知道那裡有機台可以dry etch 6" wafer 上的 Oxide (RIE or ICP)
並且不怕"Au"汙染的機台.
國立,公司的都行.
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 218.173.167.213