作者tjime831 (James_IN (准))
看板NEMS
标题[问题] 有任何机台 RIE or ICP 可进含AU的金属,并可以etch 二氧化矽
时间Mon Oct 6 11:25:30 2008
急问..............
请问各位大大,
版上有人知道那里有机台可以dry etch 6" wafer 上的 Oxide (RIE or ICP)
并且不怕"Au"污染的机台.
国立,公司的都行.
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