目前實驗室從以前學長到現在我想已經累積了很多製程的技術！ 及很多器台手冊(如NDL、SRC、NSRRC)， 不過目前應該沒有一個地方，也沒有任何一個人有完整的資料！ 萬一有經驗的學長一走，我想很多技術又要重頭開始！ 而最近應該蠻多學弟都跟著博班及碩二的在學習機器及製程！ 所以我有個想法，也請大家看看，也給個意見。 1.我們博班及碩二會帶碩一學製程如(nanowire or nanogap or etc....) 而學弟負責把詳細的製作流程及結果詳錄下來！ 我舉個誇張的例子(1nm 的nanowire製備) setp 1 a. New SOI wafer, cut into 1cm*1cm b. RCA clean DI water 5 min H2OSO4:H2O2 3:1 10min DI water 5min HF:H2O 1:100 30s DI water 5min SC1 10 min DI water 5min SC2 10min DI water 5min HF 30s DI water 5min c. Dry oxide 1200 oC 1hr N&K measure(objcetive thickness=3000um , real thickness = 3010 um) d. Photolithography HMDS 5min AZ6200 (step 1:500 rpm, 30s, step 2 : 5000 rpm, 100s) soft back 150oC 5min 乙台+filter (40s) 200mj/cm2 FHD-5 100s DI water 100s Microscopy measure(objctive width = 5 um, real wdith = 10um) e. etch oxide BOE 5min DI water 5min ACE 5min DI water 5min H2SO4:H2O2 3:1 10min DI water 5min f. SPL HF 5min DI water 1min PtIr (-100V, scan speed = 100um/s) KOH (50oC, 1hr) DI water 1min SEM(objective width 1nm, real width = 10nm) ...................................................... 感覺寫的很細很煩，但是我覺的對新手會很有幫助， 因為實驗會常失敗，其實就是常常忘了這些小細節！ 先看看大家意見怎麼樣，若大家覺的還不錯 我會從帶陳宥任及許振庭開始，實施這樣的作法， 到時候再跟各位表告成效！ --

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