http://www.chinesevacuum.com/ShowArticle.aspx?id=3041 5.1漏孔 5.1.1漏孔leaks：在真空技術中,在壓力或濃度差的作用下,使氣體從壁的一側通到另一側 的孔洞、孔隙、滲透元件或封閉器壁上的其它結構。 5.1.2通道漏孔channel leak：可以把它理想地當做長毛細管的由一個或多個不連續通道 組成的一種漏孔。 5.1.3 薄膜漏孔membrane leak：氣體通過滲透穿過薄膜的一種漏孔。 5.1.4分子漏孔molecular leak：漏孔的質量流率正比於流動氣體分子質量平方根的倒數 的一種漏孔。 5.1.5粘滯漏孔vixcous leak：漏孔的質量流率正比於流動氣體粘度的倒數的一種漏孔。 5.1.6校準漏孔calibrated leak：在規定條件下，對於一種規定氣體提供已知質量流率的 一種漏孔。 5.1.7標準漏孔reference leak ：在規定條件下（入口壓力為100kPa±5%，溫度為23±7 ℃），漏率是已知的一種校準用的漏孔。 5.1.8虛漏virtual leak：在系統內，由於氣體或蒸汽的放出引起的壓力增加。 5.1.9漏率leak rate：在規定條件下，一種特定氣體通過漏孔的流量。 5.1.10標準空氣漏率standard air leak rate：在規定的標準狀態下，露點低於-25℃的 空氣通過一個漏孔的流量。 5.1.11等值標準空氣漏率equivalent standard air leak rate：對於低於10-7到 10-8Pa?m3?s-1標準空氣漏率的分子漏孔，氦（分子量4）流過這樣的漏孔比空氣（分子量 290）更快，即氦流率對應於較小的空氣漏率，在規定條件下，等值標準空氣漏率為√ 4/29=0.37氦漏率。 5.1.12探索（示漏）氣體；用來對真空系統進行檢漏的氣體。 5.2本底 5.2.1本底background：一般地在沒有注入探索氣體時，檢漏儀給出的總的指示。 5.2.2探索氣體本底search gas background ：由於從檢漏儀壁或檢漏系統放出探索氣體 所造成的本底。 5.2.3漂移drift：本底比較緩慢的變化。重要參量是規定週期內測得的最大漂移。 5.2.4噪聲noise：本底比較迅速的變化。重要參量是規定週期內測得的噪聲。 5.3檢漏儀 5.3.1檢漏儀leak detector：用來檢測真空系統或元件漏孔的位置或漏率的儀器。 5.3.2高頻火花檢漏儀H.F. spark leak detector：在玻璃系統上，用高頻放電線圈所產 生的電火花，能集中於漏孔處的現象來確定漏孔位置的檢漏儀（通常用它對玻璃系統進行 檢漏）。 5.3.3鹵素檢漏儀halide leak detector：利用鹵族元素探索氣體存在時，使赤熱鉑電極 發射正離子大大增加的原理來制做的檢漏儀。 5.3.4氦質譜檢漏儀helium mass spectrometer leak detector：利用磁偏轉原理製成的 對於漏氣體氦反應靈敏，專門用來檢漏的質譜儀。 5.3.5檢漏儀的最小可檢漏率minimum detectable rate of leak detector：當存在本底 噪聲時，將儀器調整到最佳情況下，純探索氣體通過漏孔時，檢漏儀所能檢出的最小漏率 。 5.4檢漏 5.4.1氣泡檢漏leak detection by bubbles：將空氣壓入被檢容器，然後將其浸入水中或 者對其可疑表面塗上肥皂液，觀察氣泡確定漏孔位置。 5.4.2氨檢漏leak detection by ammonia：將氨壓入被檢容器，然後通過觀察覆在可疑表 面上試紙或試布顏色的改變來確定漏孔位置。 5.4.3升壓檢漏leak detection of rise pressure：被抽空容器與真空泵隔離後，測定隨 時間的增加而升高的壓力值，來確定漏氣率。 5.4.4放射性同位素檢漏radioactive isotope leak detection：在被檢容器或零件內， 裝入適當半衰期的放射性同位素，利用測定從漏孔穿出的放射性同位素的放射能來確定漏 孔位置。 5.4.5螢光檢漏fluorescence leak detection ：將被檢零件浸入螢光粉的有機溶液（三 氯乙烯或四氯化碳）中，漏孔處將留有螢光粉，用紫外線照射螢光粉發光來確定漏孔位置 。 -- 孤獨是卓越心靈的命運 --

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