※ 引述《app13 (QQ)》之銘言： : 最近需要濺鍍(sputter)鋁膜(厚度約50nm) : 原先實驗室有一塊表面有變黑色的鋁靶，有用砂紙把它磨到表面變成有金屬光澤了 : 不過濺鍍的結果發現沒鍍上去 : 所以後來買了一塊新的鋁靶 : 但不論新舊鋁靶 : 每次濺鍍的功率都大概開80~100瓦，鍍了2~10分鐘，真空度也都有到10的-5次方 : 鍍了幾次仍然都沒鍍上去(即使是後來鍍到10分鐘的也是) : (有用電表量過完全沒電性，故認為沒有鋁膜濺鍍上去) : 對於新的鋁靶，每次預鍍也都有10分鐘 : 但機台其他同學鍍其他的靶材都ok : 實在是百思不得其解 : 煩請有經驗的各位不吝提供一些建議 : 謝謝大家! 我沒在做 但我覺得你可以朝兩個方向看看 第一 通常濺鍍時離子與空氣分子撞擊會發光 你要從玻璃罩看看chamber有沒有光束打到基板 第二 你在低瓦數時 真空度先不能太高 確認離子有打出(就也是有看到發光) 等到你確定有離子打出(發光) 再將真空度控制在濺渡範圍 請高手指正^^ --

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