※ 引述《app13 (QQ)》之铭言： : 最近需要溅镀(sputter)铝膜(厚度约50nm) : 原先实验室有一块表面有变黑色的铝靶，有用砂纸把它磨到表面变成有金属光泽了 : 不过溅镀的结果发现没镀上去 : 所以後来买了一块新的铝靶 : 但不论新旧铝靶 : 每次溅镀的功率都大概开80~100瓦，镀了2~10分钟，真空度也都有到10的-5次方 : 镀了几次仍然都没镀上去(即使是後来镀到10分钟的也是) : (有用电表量过完全没电性，故认为没有铝膜溅镀上去) : 对於新的铝靶，每次预镀也都有10分钟 : 但机台其他同学镀其他的靶材都ok : 实在是百思不得其解 : 烦请有经验的各位不吝提供一些建议 : 谢谢大家! 我没在做 但我觉得你可以朝两个方向看看 第一 通常溅镀时离子与空气分子撞击会发光 你要从玻璃罩看看chamber有没有光束打到基板 第二 你在低瓦数时 真空度先不能太高 确认离子有打出(就也是有看到发光) 等到你确定有离子打出(发光) 再将真空度控制在溅渡范围 请高手指正^^ --

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