作者rainstonein (下雨了)
看板Master_D
標題[請益]想問關於濕蝕刻的問題
時間Tue Oct 24 23:22:57 2006
目前我們用的材料只用濕蝕刻的方法去處理，蝕刻速率很慢
所以我們加上光照克服能隙障礙讓蝕刻速率變快(photoenhanced wet etching)
但是問題來了
我們用HeCd雷射當作光源
儀器放在光學室內(固定不可移動)
但是蝕刻處理卻又要同時進行(否則無法蝕刻)
我怕蝕刻用的酸溶液揮發把整間光學儀器弄壞(光HeCd雷射就40萬了><)
所以想請問一下各位前輩
有什麼比較好的處理方法嗎?
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