作者rainstonein (下雨了)
看板Master_D
标题[请益]想问关於湿蚀刻的问题
时间Tue Oct 24 23:22:57 2006
目前我们用的材料只用湿蚀刻的方法去处理，蚀刻速率很慢
所以我们加上光照克服能隙障碍让蚀刻速率变快(photoenhanced wet etching)
但是问题来了
我们用HeCd雷射当作光源
仪器放在光学室内(固定不可移动)
但是蚀刻处理却又要同时进行(否则无法蚀刻)
我怕蚀刻用的酸溶液挥发把整间光学仪器弄坏(光HeCd雷射就40万了><)
所以想请问一下各位前辈
有什麽比较好的处理方法吗?
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