想請問一下 有沒有詳解各設備像是Polisher CDI UV MMF UF RO ACF能過濾那些物質 用的孔隙多少能過濾到什麼程度 因為自己查了好多資料 很多都是將近十年前資料 感覺很多說法都重複 像是MMF能過濾SS ACF也能過濾SS 離子 等等的 結果看另一個人的研究 也說UF RO等等的也能 CDI也是電解離子 看完之後真的有點霧煞煞 會感覺是每一個設備都差不多能過濾那些東西是不是.. 唯獨只有UV我看說法較單一 就是殺菌 針對有機物 最了解的只有UV --

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